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E 05 (nitride)

氮化硅(Silicon nitride(IV))

CAS: 12033-89-5

化学式: N4Si3

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  5. E 05 (nitride)
性质

氮化硅具有优良的抗氧化性和化学稳定性,并且其热膨胀系数较小。它是六方晶系,莫氏硬度为9,相对密度为3.18。它具有很高的强度和耐高温性能,一般在1200℃以下不会熔化,也不会受化学腐蚀的影响

制法

以硅粉为原料,在氮气中及1200℃的高温下进行初步氮化,使其中一部分硅粉与氮反应生成氮化硅,然后在1350~1450℃的高温炉中进行第二次氰化,反应成氮化硅。或者以二氧化硅、氮气和炭为原料,将硅石与碳按一定比例充分混合,通入氮气加热至1400℃氮化,为了防止生成SiC,需加入少量的Fe2Oa抑制SiC的生成。也可以以四氯化硅和氨气为原料,将四氯化硅与氨气在O℃的己烷中反应,将产物在惰性气体中加热分解生成氮化硅。还可以用硅烷(SiH4)和氨气在1050~1350℃形成无定形Si3N4,在1450℃形成口相氮化硅。

用途

氮化硅陶瓷应用领域包括:绝缘材料、机械耐磨材料、热机材料、切削工具、高级耐火材料及抗腐蚀、耐磨损密封部件等;可用于燃气轮机的燃烧室、机械密封环、输送铝液的电磁泵的管道及阀门、永久性模具、钢水分离环等;有高温轴承的特性,工作温度可达1200℃,比普通合金轴承的工作温度提高2.5倍;可以用做电热塞,用它进行汽车点火可使发动机起动时间大大缩短,并能在寒冷天气迅速起动汽车;具有良好的透微波性能、介电性以及高温强度,适合用于导弹和飞机的雷达天线罩。

中文名 氮化硅
英文名 Silicon nitride(IV)
别名 氮化硅
氮化硅粉
氮化硅粉末
氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18M
氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35M
氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18M
氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶T, 76.2MM (3.0IN) DIA X 6.35
英文别名 E 05
E 10
Silicon nitrid
E 05 (nitride)
E 10 (nitride)
Silicon nitride
Silicon nitride(IV)
Denka Silicon Nitride SN-F 2
CAS 12033-89-5
EINECS 234-796-8
化学式 N4Si3
分子量 140.2833
InChI InChI=1/4H3N.3H4Si/h4*1H3;3*1H4/q4*-3;;
密度 3.44 g/mL at 25 °C (lit.)
熔点 1900 °C
水溶性 Insoluble water.
折射率 2.8
存储条件 Room Temprature
稳定性 稳定。
敏感性 1: no significant reaction with aqueous systems
外观 粉末
比重 3.44
颜色 Pale gray
Merck 14,8497
物化性质 灰白色α晶型粉末。由于它具有金刚石型三维晶格结构,所以具有高温热稳定性、抗热震性、化学稳定性和良好的电绝缘性及质硬性。氮化硅熔点1900℃,相对密度3.44。在空气中加热到1450~1550℃仍稳定。易溶于氢氟酸,不溶于冷、热水及稀酸,对于浓硫酸和浓氢氧化钠溶液作用也极缓慢。
MDL号 MFCD00011230
危险品标志 Xi - 刺激性物品
刺激性物品
风险术语 37 - 刺激呼吸系统。
安全术语 S22 - 切勿吸入粉尘。
S24/25 - 避免与皮肤和眼睛接触。
WGK Germany 3
RTECS VW0650000
FLUKA BRAND F CODES 10
TSCA Yes
上游原料 尿素 四氯化硅
下游产品 碳化硅

E 05 (nitride) - 性质

可信数据

氮化硅具有优良的抗氧化性和化学稳定性,并且其热膨胀系数较小。它是六方晶系,莫氏硬度为9,相对密度为3.18。它具有很高的强度和耐高温性能,一般在1200℃以下不会熔化,也不会受化学腐蚀的影响

最后更新:2025-06-10 22:55:16

E 05 (nitride) - 制法

可信数据

以硅粉为原料,在氮气中及1200℃的高温下进行初步氮化,使其中一部分硅粉与氮反应生成氮化硅,然后在1350~1450℃的高温炉中进行第二次氰化,反应成氮化硅。或者以二氧化硅、氮气和炭为原料,将硅石与碳按一定比例充分混合,通入氮气加热至1400℃氮化,为了防止生成SiC,需加入少量的Fe2Oa抑制SiC的生成。也可以以四氯化硅和氨气为原料,将四氯化硅与氨气在O℃的己烷中反应,将产物在惰性气体中加热分解生成氮化硅。还可以用硅烷(SiH4)和氨气在1050~1350℃形成无定形Si3N4,在1450℃形成口相氮化硅。

最后更新:2025-06-10 22:55:16

E 05 (nitride) - 介绍

有α-和β-两种晶体。溶于氢氟酸。不溶于水。为共价键化合物,结合非常稳定。在空气中被加热至1450~1550℃时仍稳定。强度高。硬度大。硅粉在氮气氛中于高温下制得。也可由卤化硅与氨气经二氧化碳气激光束照射,生成无定形氮化硅,再在1450℃电炉、氮气氛中加热制得高纯度氮化硅粉末。主要用作功能陶瓷材料原料,非铁金属的耐熔材料,飞机引擎,燃气输机喷嘴、轴承等高温结构材料和耐热涂层以及研磨、切削、电炉等的材料。
最后更新:2022-10-16 17:12:37

E 05 (nitride) - 用途

可信数据

氮化硅陶瓷应用领域包括:绝缘材料、机械耐磨材料、热机材料、切削工具、高级耐火材料及抗腐蚀、耐磨损密封部件等;可用于燃气轮机的燃烧室、机械密封环、输送铝液的电磁泵的管道及阀门、永久性模具、钢水分离环等;有高温轴承的特性,工作温度可达1200℃,比普通合金轴承的工作温度提高2.5倍;可以用做电热塞,用它进行汽车点火可使发动机起动时间大大缩短,并能在寒冷天气迅速起动汽车;具有良好的透微波性能、介电性以及高温强度,适合用于导弹和飞机的雷达天线罩。

最后更新:2025-08-19 16:24:40

E 05 (nitride) - 简介

氮化硅(Silicon Nitride)是一种无机化合物,由氮和硅元素组成。它具有以下一些性质:

高硬度:氮化硅具有很高的硬度和强度,比许多传统材料如钢和陶瓷要坚硬得多。

耐高温性:它具有出色的耐高温性能,可以在高温环境中长时间稳定运行,一般能耐受高达1700摄氏度的温度。

耐腐蚀性:氮化硅对大多数化学物质具有较强的抗腐蚀性,包括酸、碱和溶剂等。

优异的绝缘性能:氮化硅是一种优良的绝缘材料,对电和热具有较高的绝缘性能,适用于高电压和高温环境下的应用。

良好的导热性:尽管是绝缘材料,氮化硅具有较高的导热性能,可以作为高温散热材料使用。

氮化硅的主要用途包括:

半导体制造业:氮化硅的绝缘性能和耐高温性,它常被用作半导体材料的封装和绝缘层。

陶瓷工业:氮化硅的高硬度和耐高温性,它常被用于制造陶瓷刀具、轴承球等高性能耐磨件。

航空航天业:氮化硅可以作为航空航天器的结构材料,其耐高温性和轻质特性,在航天器的尾翼、燃烧器等处具有广泛应用。

制备氮化硅的方法有多种,常见的制法包括:

热分解法:将硅材料与氨气在高温下反应,生成氮化硅。

化学气相沉积法(CVD):通过在气相中反应,使气相中的硅、氨反应生成氮化硅薄膜。

反应烧结法:将硅粉和氨气放在一起,在高温下反应产生氮化硅块状物。

在制备和处理氮化硅过程中,需要避免吸入粉尘或接触到皮肤。工作时应佩戴防护手套、口罩和护目镜等个人防护装备。

氮化硅材料使用过程中应注意防火防爆,避免与明火或高温接触。

氮化硅材料在破碎或剥离时会产生粉尘,需要采取适当的控制措施,如使用局部排风设备或湿式清理等。

氮化硅材料一般不溶于水,但在强碱性溶液中会发生反应,可能产生有害的气体。
最后更新:2024-04-09 21:21:28
E 05 (nitride)
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